近日,我司与深圳力策科技有限公司(以下简称“力策科技”)合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破:依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备,配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺,完全绕开深紫外(DUV)光刻路线,成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产,并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。01.PL-AS设备交付:真空气压式路径全方位保障核心指...
01引子:“完美模板”的神话与被误解的“保真度”佳能(Canon)自2019年发布纳米压印光刻技术在先进制程集成电路的重大突破后,国内诸多相关厂商开始对纳米压印技术产生极大的兴趣,并开始进行相关的探索工作。但在纳米压印(Nanoimprint Lithography, NIL,)的产业化推广中,时常遇到一些来自业界的怀疑的声音。一个较为典型场景:客户使用高端光刻的方式(如:浸没式DUV/EU...