在传统微纳制造领域,图案化通常局限于平面衬底。然而,随着柔性与三维器件的发展,在曲面基底上集成微纳结构已成为迫切需求。纳米压印技术凭借其高保真度与共形接触特性,成为在曲面制造微纳结构最具可行性的路径之一,开启全新的应用可能。01为什么需要曲面压印?自然界中的许多功能表面均具有复杂的三维曲面形貌,例如昆虫复眼、植物叶片和生物组织表面,其优异的光学、润湿和传感性能往往来源于曲面上的微纳结构。受此...
近日,我司与深圳力策科技有限公司(以下简称“力策科技”)合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破:依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备,配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺,完全绕开深紫外(DUV)光刻路线,成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产,并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。01.PL-AS设备交付:真空气压式路径全方位保障核心指...