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纳米压印材料
PL-A 晶圆级真空气压
纳米压印系统
<10nm
分辨率
0nm
残余层
≥30
WPH*
Wafers per hour
12 inch.
Max.
PL-A 是一款才用双腔室真空贴合的气压式纳米压印系统,可实现10nm以下分辨率、压印压力均一性超过99.5%的纳米压印工艺;
设备简介
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设备视频
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PL-A 纳米压印系统是一款针对晶圆级工业中试、量产的纳米压印设备。具有高产能超高分辨率、全自动化、操作简单等优点。PL-A 采用璞璘科技自主研发的双腔室真空气压式纳米压印工艺,同时结合 SFP & Hybird Mold®压印技术,可保证在压印过程中,整个晶圆表面的压印压力均匀误差<0.5%;
同时可实现无残余层纳米压印工艺
;
在保证纳米压印模板微纳结构特征情况下可以最大消除颗粒对压印结果带来的缺陷影响,
并且支持曲面压印工艺
。为更好服务不同客户需求,我司可根据客户需求定制特殊功能。
工艺演示视频
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