PL-P纳米压印系统是一款针对柱透镜、微透镜等微米级结构的纳米压印设备，具有自动化程度高、高量产性的特点。设备采用光学与力学传感器双重调平方案，调平精度在8寸范围内≤0.5μm，可实现较高的残余层均一性。设备的对位精度≤±1μm，可选配TSM红外点光源进行硅片等不透可见光材料的双面对准。此外，设备内部自带高精度点胶机，可最大限度减少人工操作的步骤，提高压印产品的稳定性。为更好服务不同客户需求，我司可根据客户需求定制特殊功能。