PL-SR是一种通用的重复步进纳米压印光刻系统，其具有高效、高精度的压印功能，此外还具备拼接复杂结构的性能。PL-SR采用高精度的喷墨打印式涂胶方案，与此同时还可以辅助高精度的对准功能，可实现＜200nm对准精度要求的纳米压印工艺。此外，PL-SR重复步进压印系统还可满足模板拼接的需求，最小可实现20mmx20mm的压印模板均匀的拼接，最终可实现300mm(12in)晶圆级超大面积的模板。

PL-SR是目前中国第一台采用喷墨打印步进式纳米压印机，也是至今唯一在国内已初步实现20nm以下制程的高端芯片纳米压印工艺研发的压印设备。