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PRODCTS
PL-R 双面对准辊压式
纳米压印系统
＜50nm
分辨率
＜20nm
残余层
≥30WPH*
Wafers per hour
＜3μm
对准精度
PL-R 是一款才用高精度重力辊轮式纳米压印系统，可实现50nm以下分辨率、双面对准精度＜3μm的纳米压印工艺；
设备简介 》
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PL-R 系列纳米压印系统是一款针对晶圆级纳米压印工业中试、量产的辊压式纳米压印设备。具有高产能、全自动化、操作简单等优点。PL-R 采用重力式辊轮，可精确控制压印过程中柔性模板与衬底贴合运动过程中压力偏差问题，在特定的工艺过程中，可实现晶圆全幅面残余层厚度＜20nm；此外，PL-R纳米压印系统针对客户不同的压印诉求，尤其在衍射光波导（AR）领域，增加了双面对准精度＜3μm的工艺能力；。
工艺演示视频
设备工作视频
PL-A 晶圆级真空气压式
纳米压印系统
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