模板胶 刻蚀型 光学型 生物型 配套 |
PL-R-RM
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PL-R-UPM 工作模板胶
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-UPM 是一款低表面能、含氟的紫外光固化工作模板胶，可精确复制源模板纳米结构，膜厚与杨氏模量可调，分辨率 <10 nm，透过率 >96%；配方兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程，适用于制备超疏水结构或纳米压印工作模板。
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PL-R-RM 母模板复制材料（模板胶）
PL-R-PC1000/1010/1020 耐氧刻蚀型纳米压印胶
产品介绍：PL-R-PC1000/1010/1020 系列为耐氧等离子体刻蚀型紫外纳米压印胶，压印后即可形成微纳结构，兼具 <7 nm 分辨率、200 °C 以上热稳定性及 >40∶1 氧等离子体刻蚀选择比；厚度可调，折射率 1.48–1.49，可直接作为硬掩模用于先进半导体与精密图形转移，兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-PC2000 耐氟/氯基刻蚀型纳米压印胶
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-PC2000 是一款耐氟/氯基等离子刻蚀的紫外光固化纳米压印胶，压印后可形成模量 800 MPa、折射率 1.53 的硬掩膜，分辨率 <7 nm；对蓝宝石、硅、石英刻蚀选择比 1∶0.8–1∶1，可直接用于化合物半导体、铝光栅、硅透镜等精密图案转移，兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-UL1000/2000 传递层材料
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-UL1000 举离层系列包含 UL1000-O（油溶）与 UL1000-W（水溶）：一步旋涂即可在晶圆表面形成折射率 1.49、均匀性 <±2 nm 的牺牲薄膜；既可作为增粘层，又可作为高精度结构的传递层。完成金属蒸镀或刻蚀后，O 型用苯甲醚、W 型用水或极性溶剂即可使胶层完全溶解剥离——零残留、零损伤。材料兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
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PL-R-DHR（1.7~1.9）复合掺杂型纳米压印胶
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-DHR1700/1800/1900 系列是一组折射率梯度化（@589 nm，1.70→1.80→1.90）的掺杂型 UV 光固化纳米压印光学胶，压印后可形成高透明（>92 %）、低雾度（<0.02 %）的微纳结构，可直接用于 AR 衍射波导、车载 HUD 等光学元件，兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
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PL-R-O/OP（1.3/1.5/1.6） 有机光学胶
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-O1340 与 PL-R-O1500 是两款紫外固化光学纳米压印胶：O1340 折射率低至 1.34（@589 nm），阿贝数 71，压印后即可形成高透（>96 %）、低雾度的微纳结构，适用于 MLA、Meta Lens；O1500 折射率 1.506，阿贝数 49，同一工艺可获高分辨率图案，透光率 >98 %。二者均兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-LS001 低收缩纳米压印胶
产品介绍：PL-R-LS001是一款专为低形变场景设计的光固化压印树脂，抗氧阻聚，毫米级压印结构体积收缩率低至 0.5 %，特别适用于微透镜（micro-lens）、衍射光学元件（DOE）、AR 光波导等对尺寸稳定性要求高的应用。配方兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-B1000 低荧光紫外纳米压印胶
产品介绍：PL-R-B1000是一款专为生物医学设计的低荧光紫外纳米压印胶，压印后可在衬底上形成高精度微流道或测序微结构；折射率 1.52，透光率 97 %，雾度 <0.01 %，表面可羟基化，兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
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PL-R-DR001 可降解紫外纳米压印胶
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-DR001 是璞璘科技推出的“可降解”紫外纳米压印胶：旋涂/喷胶通用，压印后可形成高模量、折射率 1.52、分辨率 <10 nm 的纳米图形；工艺完成后仅需 3 min 稀酸水解即可无残留、无损伤地清洗模板及衬底，显著延长模板寿命并降低重工成本。材料兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-AP 增粘材料
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-AP1000 与 PL-R-AP2000 是分子级膜厚的增粘剂：AP1000 专用于硅、石英等无机衬底，经旋涂-烘烤即可显著提升后续压印胶的均匀铺展与附着力；AP2000 在相同工艺条件下，特别针对金属-无机界面，在金属镀膜或电镀前一步施用，既可增强无机衬底与金属层的结合力，又可兼顾衬底与压印胶的粘附。两款产品兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
PL-R-AT 防粘材料
产品介绍：PRINANO 的 PL-R-AT 是一款分子级防粘处理剂，经 80 °C 气相沉积 4 h 即可在二氧化硅等氧化物表面构筑 <2 nm膜厚、水接触角 >110° 的疏水抗粘膜，显著降低表面能，便于后续脱模；产品兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
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PL-R-TS001 耐高温纳米压印胶
产品介绍： PRINANO 的 PL-R-TS001 是一款耐高温纳米压印树脂，兼具卓越的抗氧阻聚与耐热性；热重分析表明，3 % 热失重温度高达 365 °C，因而尤其适合高温工况。压印后即可形成耐高温微纳结构，杨氏模量 2.5 GPa，折射率 1.49，透过率 >95 %。材料兼容市售涂布和压印设备，可直接接入现有工业制程。
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