创新突破，蓄势未来——璞璘科技2025年度盘点

当 2025 年的日历翻过最后一页，璞璘科技在纳米压印赛道上的每一步都掷地有声，从核心技术落地到权威资质加身，从行业展会发声到团队凝心聚力，依托核心技术创新，我们深耕纳米压印高端微纳制造领域并取得实质进展。

国家级资质稳固：复审认定 “国家高新技术企业” ，标志着公司在核心技术研发、成果转化能力、研发投入强度等方面持续性符合国家级标准。

该款设备可实现如下技术指标：残余层厚度＜10nm，变化＜2nm，压印结构深宽比＞7:1，可满足线宽＜10nm的制程需求，与此同时，配套研发了可溶剂清洗的光固化纳米压印胶，解决了模板污染后清洗的问题，为高精度步进纳米压印提供了可靠材料保障。与此同时，该款设备在光学器件领域可实现短周期、高精度拼版功能。

消息发布后得到国家，省、市、区各级相关部门高度关注，相关领导第一时间走访、调研。此次突破向全球展示了中国在纳米压印领域的硬科技实力。

璞璘科技将继续推进技术迭代与产业化，为中国高端集成电路制造发展提供“新选项”。

针对模板拼接需求，具备两种技术方案的模板拼板设备，在半导体喷墨步进板对板压印拼版工艺外，开发了一种利用弹性体+模板胶复合工艺（Hybird Mold)，其具有极高的颗粒包容性。此外，此款设备兼容旋涂/喷墨工艺，可实现300*300mm衬底上单区域＞100* 100mm的拼版需求。

针对微透镜阵列产品压印研发了型号为：PL-P大面积板对板式纳米压印系统，可实现从微米级到毫米级透镜的压印，设备集成了自动点胶机构和自动对位功能，具备≤±1μm的高精度对位能力，和≤0.5μm@8inch的调平性能，可广泛应用于内窥镜、显示、红外探测等领域。

公司打通碳化硅（SiC）衬底，单层胶+硬掩模、双层胶+lift-off两条刻蚀路线并小批量量产；

全年为数十家单位打样，覆盖半导体、AR光波导、生物检测等多领域，尤其攻克大面积超透镜残余层均一性控制难题，为其量产铺路。

针对国内外客户对曲面上制作微纳结构需求，璞璘科技研发了特色的真空气压式设备及工艺方案，实现了曲面透镜双面压印。

针对区域化的下凹式结构模板，微纳结构边缘易产生气泡的问题，我们通过胶材调整结合工艺优化，利用气压式特有的真空压印，成功解决了这一难题。

2025 年，璞璘科技积极亮相国内外重要行业展会，以技术为纽带，与全球同行交流对话。

先后参与 “亚洲光电博览会”“ SEMICON China”“长春微纳光学论坛”“中国国际纳米技术产业博览会” 等多个重量级展会；

9月光博会期间，璞璘科技展位迎来重要来访。深圳市发展和改革委员会党组书记、主任郭子平博士莅临考察，公司CEO邓萌萌详细介绍了璞璘科技在高端半导体及光电应用领域的纳米压印技术积累与发展成果。

Pre-A 轮融资完成：2025 年 8 月，璞璘科技完成由杭州高新金投集团独家投资的 Pre-A 轮融资，此次融资将助力璞璘科技进一步扩大技术优势，加速纳米压印技术的研发与应用。

战略合作签约落地：2025 年 10 月 ，璞璘科技与世索科在杭州签署战略合作协议。双方将在材料定制、技术创新、市场拓展等方面深度协作，实现互利共赢，助力纳米压印高端微纳制造产业升级。

2025 年，璞璘科技的发展得到了各级政府部门的高度关注与支持，多位领导先后莅临公司调研指导，为企业发展指明方向。

2025年2月，杭州市委常委、副市长章登峰（时任杭州市高新区党工委 、滨江区委书记）一行到访，深入实验室了解纳米压印设备研发进展，对公司自主创新成果给予肯定；

璞璘科技将以 2025 年成果为基础，持续深耕纳米压印领域，稳步推进产业化进程，为行业发展注入更强动力，奋力实现更高质量的发展。